Katodik ark plazma biriktirme teknolojisini kullanma. Katodik ark plazma biriktirme, birçok yönden iyon kaplamaya benzeyen nispeten yeni bir ince film biriktirme teknolojisidir. Avantajları: Yayılan parçacık akışındaki yüksek iyonizasyon oranı ve bu iyonize iyonlar yüksek kinetik enerjiye (40-100eV) sahiptir.
İyon ışını biriktirmenin geliştirilmiş yapışma, artan durum yoğunluğu ve bileşik film oluşumuna karşı yüksek reaktivite gibi avantajlarının çoğu, katodik ark plazma biriktirmede yansıtılmaktadır. Katodik ark plazma biriktirme, daha karmaşık şekilli alt tabakalar üzerinde yüksek biriktirme hızıyla biriktirme, iyi kaplama tekdüzeliği, düşük alt tabaka sıcaklığı ve ideal kimyasal oranlarla bileşiklerin veya alaşımların kolay hazırlanması gibi kendine özgü avantajlara sahiptir. .
Katot malzemesi, yüksek akım yoğunluğu nedeniyle buharlaştırma işlemiyle buharlaştırılır ve ortaya çıkan buharlaşma, elektronlar, iyonlar, merkezi gaz fazı atomları ve parçacıklardan oluşur. Katot ark noktasında malzeme hemen iyonize olur. İyonlar katot yüzeyine neredeyse dik bir yönde yayılır. Yüksek enerjili krom iyonları nitrojene çarptığında hemen kimyasal reaksiyona girecek ve gaz haline gelecektir. Krom nitrür molekülleri.
